近日，从山西大学获悉，该校激光光谱研究所教授陈旭远团队利用OAT法实现超高垂直石墨烯薄膜生长，在三维竖直石墨烯制备及储能应用领域取得突破性进展。这对于高负载竖直石墨烯的合成具有重要的指导意义。

据了解，等离子体增强化学气相沉积工艺合成的竖直石墨烯集合了石墨烯的固有特性和三维结构带来的优势，在储能领域展示出巨大前景。

但在前期研究中发现，竖直石墨烯的实际应用受到其高度饱和现象的限制，无法在高能量、高功率的超级电容器上充分发挥优势。实际上，其高度饱和是由于竖直石墨烯高度通常在几百纳米至几微米，竖直石墨烯片层随着沉积时间增长而聚合，改变了等离子体中鞘层电势使其分布趋于均匀，导致沉积过程中的活性粒子分布也趋于均匀，失去了在竖直方向的沉积优势。

陈旭远团队利用OAT方法合成了高达80微米的超高竖直石墨烯，并应用于超级电容器中，获得了241.35mF cm–2的面积比电容，展现出优越的电化学性能及储能能力。同时，该合成技术可通过氧辅助“修正”工艺可以获得任意高度的竖直石墨烯。这项研究成果将使OAT竖直石墨烯在集成芯片、器件领域中具有非常大的应用潜力。